理光单电专利公布

2014-11-27 17:30| 发布者：cphoto| 查看：574| 评论：0|来自：新摄影网

摘要：单电相机结构理光半透镜单电相机专利现已公布，日本公开专利号No.2014-219638，与目前市场上的单电产品相比，该专利特点在于半透镜的可见光透光率可调，可调范围在50%-100%之间。No.2014-219638号专利详情：公开日期 ...

单电相机结构

理光半透镜单电相机专利现已公布，日本公开专利号No.2014-219638，与目前市场上的单电产品相比，该专利特点在于半透镜的可见光透光率可调，可调范围在50%-100%之间。

No.2014-219638号专利详情：

目前市场上唯一采用半透镜结构相机的只有索尼A卡口一家，其优点在于既实现了实时取景，同时又兼顾了高速相位差对焦和连拍性能。但缺点也显而易见，半透镜分配了一部分光线用于对焦，而传感器实际接收到的光量打了折扣，实际光损失在30%左右。

理光单电结构

理光目前有子品牌单反宾得，短期内应该不会在结构方面做出太大改变，新专利或许只是技术性探索，当然也不能排除新相机系统的可能。

双层半透镜显微结构

根据现已公布的资料，新专利半透镜由两层复合镀膜基板组成，借助压电陶瓷等技术，在纳米级范围内（5-300nm）改变两层基板距离，从而实现对透光率的调节。针对可见光（波长范围380-780nm）的反光量约为0-50%，即是说透光率在50-100%之间。

基板间隔距离不同，半透镜透光率也不一样

相比于索尼单电，理光专利做得更极端但又更智能一些。比如在讲求对焦速度的场合，可以将50%的光线分配给对焦测光系统。当追求画质时又可将透光率设置为100%。

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